Equipamento de Metalização a Vácuo

Os revestimentos PVD são seguros?

Os processos de Deposição de Vapor Físico são uma técnica ecologicamente correta ou de "revestimento" que reduz bastante a quantidade de substâncias tóxicas que devem ser usadas, gerenciadas e descartadas em comparação com outros processos "úmidos" que envolvem precursores de fluidos e reações químicas usadas para obter o mesmo resultado . Por ser capaz de produzir revestimentos extremamente puros, limpos e duráveis, a Deposição Física de Vapor é a tecnologia de escolha para a indústria de implantes cirúrgicos e médicos.

Você sabe o que é uma máquina de revestimento? Refere-se principalmente a um tipo de revestimento que precisa ser realizado sob um alto grau de vácuo, incluindo muitos tipos, incluindo evaporação de íons a vácuo, pulverização de magnetron, epitaxia de feixe molecular MBE, deposição de pulverização a laser PLD e muitos outros.

O sistema de vácuo inclui uma bomba mecânica, uma bomba criogênica, uma válvula de desbaste, uma válvula foreline, uma válvula de gaveta e um medidor de vácuo para detecção de vácuo. Durante a pulverização de magnetron, a influência de nitrogênio, oxigênio e vapor de água no processo deve ser minimizada, de modo que o grau de vácuo deve ser inferior a 0,13 mPa ~ 4 Pa. A bomba Nowdry e a bomba criogênica são geralmente usadas. A bomba seca é usada para bombear baixo vácuo. Comparado com a bomba de óleo mecânica original, pode impedir que o óleo e o gás na bomba de óleo entrem na câmara de vácuo, contaminando o substrato e reduzindo a adesão entre o filme e o substrato. Normalmente, depois que a bomba seca é bombeada abaixo de 6,5 Pa, a válvula de gaveta é aberta e a bomba criogênica é usada para bombear alto vácuo. A bomba criogênica é caracterizada pela alta velocidade de bombeamento, especialmente a capacidade de remover o vapor de água é muito forte.

O sistema de revestimento por pulverização consiste em fonte de alimentação DC, material alvo, água de resfriamento, ímã permanente, dispositivo de aquecimento de substrato, defletor, camada de proteção, etc. Esta é a parte central da estação de pulverização de magnetron. A fonte de alimentação CC fornece uma alta tensão negativa de 300-1 000 V e a aplica ao alvo, de modo que o alvo fique no cátodo e o substrato no ânodo. A água de resfriamento é usada para resfriar o material alvo para evitar que a temperatura alvo suba muito rápido devido à pulverização catódica. A tubulação de água de resfriamento deve ser feita de materiais isolantes, como tubos de plástico, e não tubos de metal. O dispositivo de aquecimento do substrato pode remover impurezas como vapor de água no substrato, o que pode melhorar a adesão entre o filme e o substrato. Além disso, para alguns metais, uma temperatura adequada pode melhorar a qualidade do filme.

Inscrição

Parâmetro

Nossa empresa

Tag: equipamento de metalização a vácuo, China, fornecedores, fabricantes, fábrica, personalizado, comprar, preço, cotação