Máquina de revestimento a vácuo rígido de ferramentas de corte

O efeito dos campos magnéticos

A irregularidade do campo magnético piorará a uniformidade do filme. O princípio básico do magnetron sputtering é estender a trajetória dos elétrons através do campo magnético e colidir com os átomos de argônio o máximo possível. No local onde o campo magnético é forte, mais íons Ar+ são gerados e bombardeio Há mais átomos do material alvo, e a camada de filme sobre o substrato é mais espessa. Pelo contrário, onde o campo magnético é fraco, a camada de filme é mais fina. Obviamente, a força do campo magnético também afetará a taxa de deposição, a taxa de deposição é alta quando o campo magnético é forte e vice-versa, a taxa de deposição é baixa.

Influência da temperatura e limpeza do substrato

A temperatura adequada do substrato pode melhorar a adesão e a velocidade de deposição do filme, o que requer explorar a temperatura específica de acordo com diferentes alvos. A limpeza do substrato tem grande influência na adesão entre o substrato e o filme, por isso é muito importante fazer um bom trabalho de limpeza do substrato e da câmara de vácuo.

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