Equipamento de Metalização a Vácuo PP PC

Equipamento de revestimento a vácuo refere-se principalmente ao revestimento que precisa ser realizado sob alto vácuo, incluindo muitos tipos, incluindo evaporação de íons a vácuo, pulverização de magnetron, epitaxia de feixe molecular MBE, deposição de pulverização a laser PLD e muitos outros. A ideia principal é dividi-lo em dois tipos: evaporação e sputtering.

A deposição física de vapor é cultivada em um processo de reação física de vapor. O processo de deposição é realizado sob duas condições, uma condição de vácuo e uma condição de descarga de gás de proteção de baixa pressão, ou seja, um processo de descarga de plasma de baixa pressão. A substância utilizada no revestimento é uma substância sólida. Após a "evaporação e pulverização", um novo revestimento de substância sólida com propriedades completamente diferentes do substrato é formado na superfície da peça. A deposição física de vapor é dividida principalmente em três tecnologias: evaporação a vácuo, pulverização catódica e revestimento iônico. As técnicas de pulverização catódica e de ionização são realizadas sob condições de descarga de gás de baixa pressão. O revestimento passou pelo processo de descarga, pelo processo de descarga por arco quente e pelo processo de descarga por arco frio.

A espessura da camada de filme de deposição física de vapor é pequena, a pureza da camada de filme é alta, a força de ligação com o substrato é boa, e a camada de filme é finamente organizada, e o alcance do substrato que pode ser depositado é relativamente amplo . Além disso, uma camada de filme composto multifuncional pode ser obtida, o que pode reduzir a emissão de gases poluentes na atmosfera, causar menos danos ao corpo humano e alcançar o efeito de economia de energia e proteção ambiental.

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